GDSII to Mask Flow Solution

멘토는 GDSII-to-Mask에 대한 주된 문제점들을 해결하는 특별한 해결책을 제공하고 있습니다. 그리하여 높은 Wafer 수율을 위해 정밀한 CD (Critical Dimension)를 가능케 하고 mask 제조시간 단축 , 비용절감 그리고 신기술의 개발에 대한 비용과 개발 기간등을 단축할 수 있습니다.

멘토 그래픽스, SoftJin사 제품 인수

멘토 그래픽스는 SoftJin Technologies사로부터 마스크 데이터 준비(MDP) 제품과 일류 엔지니어 팀을 인수했습니다. 멘토 그래픽스가 인수한 SoftJin사 제품 목록 보기

멘토 그래픽스의 교육 프로그램

저희는 전세계, 온라인 또는 현지 사이트의 교육 센터에서 Calibre Products에 대한 교육 과정을 제공하고 있습니다.

Calibre 교육과정
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Design Tools

Calibre® Computational Lithography

Calibre computational lithography solution은 제조 공정에서 더욱 견고하고 충실도를 제공하는 변동하는 여러 공정 조건에서도 image fidelity를 보장하는 혁신적인 핵심 기술을 제공합니다. 자세히 보기

Calibre Mask Process Correction

The Calibre Mask Process Correction 솔루션은 멘토의 model based OPC 기술이 특별히 e-beam mask writer 에 최적화 되었습니다. 자세히 보기

Calibre Mask Data Preparation

멘토의 Mask Data Preparation (MDP) 솔루션은 Calibre 플랫폼과 완벽하게 호환되며 공통된 언어를 사용하여 하나의 mask fabrication batch run안에서 전 resolution enhancement process와 마스크 데이터 포맷 변환 업무가 완성될 수 있도록 합니다. 자세히 보기

IC 제조 툴 스위트

멘토의 툴 스위트는 위상 변이 마스크(PSM: phase shift mask), 스캐터링 바(SB: scattering bars)와 광 근접효과 보정(OPC: optical proximity correction)은 물론 마스크 룰 점검(MRC: mask rule checking), MPC(mask writer process correction) 및 데이터 포맷 변환과 같이 해상도 향상 기술(RET)에 필요한 데이터 조작 기능들을 전부 한 번의 배치 실행으로 매끄럽게 통합시켜 줍니다.

저희의 솔루션은 일반 계층적 데이터베이스와 지오메트리 프로세싱 엔진을 기반으로 작성되었습니다. 지오메트리 프로세싱 엔진은 레이어 도출, 미러링, 스케일링, 회전, 평면화 필(planarization fill) 그리고 글로벌 및 선택적 사이징과 같은 기능들을 제공합니다. 이 흐름은 MEBES 및 VSB(Variable-Shaped-Beam) 포맷은 물론 GDSII와 같이 서브파장 영역의 첨단 마스크 작성에 있어서 가장 중요한 마스크 라이터 포맷의 출력으로 완료됩니다.

특장점

최첨단 마스크 향상 및 제조 기능

지난 십 년 동안 저희는 다음과 같은 노력들을 통해 수많은 팹들의 마스크 품질 및 디자인-투-마스크 TAT(turnaround time) 개선에 기여해 왔습니다:

  • 동급 최상의 기술
  • 툴 인터페이스와 하드웨어 플랫폼의 폭 넓은 선택을 제공하는 유연한 솔루션들
  • 신뢰할 수 있는 파트너이자 조언자로서 귀하의 성공을 보장하고자 노력하는 엔지니어링 지원 팀

설계에서 마스크까지 통합된 가상 제조 흐름

  • 레이아웃의 물리적 및 전기적 검증
  • DFM(Design-For-Manufacturing) 모델링 및 최적화
  • 포괄적인 해상도 향상 기술들(RET)
  • 최첨단 광 근접효과 보정(OPC) 및 검증
  • 전용 MPC(mask writer process correction)
  • 계층적 마스크 룰 점검(MRC)
  • 마스크 프랙처링(Mask fracturing) 및 마스크 라이터 데이터 변환

개방적이며 액세스가 가능

저희의 모든 툴들은 개방되어 있으며 다양한 인터페이스를 통해 액세스할 수 있으므로 테이프아웃에서 마스크까지 최단시간에 완료할 수 있도록 귀사의 흐름을 최적화해 줍니다.

  • Calibre 및 Oasis 데이터베이스 API
  • 리소그래피 및 메트롤로지 API
  • 일반 룰과 제어 언어